上海微电子装备（SMEE）近日动作频频，展现出强烈的研发新动向。由于国内进口ASML微影机受限，促使本土微影机业者加紧投入研发。在此背景下，SMEE近期大幅扩招，表明其正规划迈向IPO之途，以吸引更多优秀人才参与其发展。
同时，国内科学院长春光学精密机械与物理研究所（简称长春光机所）也在微影机技术研发上取得一定进展。2017年，长春光机所的「极紫外微影关键技术研究」获得国内专项验收，推动了国内EUV技术研发的进展。有消息称，2023年4月，国内科学院院士白春礼曾参观过长春光机所的EUV样机，但官方并未证实此消息。近期，国务院总理李强也赴长春光机所进行公开调研，显示出国家对微影机技术研发的重视。
上海微电子装备集团作为承担多个「国家IC前道微影机研制专项任务」的公司，近日大规模对外招聘，包括光学设计、光学检测、光学加工、机械设计、电机设计、控制硬件系统、制造加工、供应商管理、高级技术工程师等多个职位，起薪普遍在人民币1.5万~1.8万元以上，关键职位如光学领域的专业工程师月薪更达人民币4万元。
微影机是半导体制造中最复杂、关键的制程步骤之一，集成了多项技术。ASML将微影机组件分为三大模块：照明光学、光罩和晶圆模块。由于最高端的EUV微影机约有10万多个零组件，制造门槛极高，因此ASML几乎垄断了全球高端机种市场。然而，由于美国对华管制政策的影响，中国自行研发微影机系统似乎成为了必然的结果。
尽管如此，与国际大厂相比，国内本土微影机仍然存在巨大差距。目前主要处于28纳米和14纳米制程时代，在新进制程领域如EUV与高端的DUV系统，仍需进一步验证与商业化突破。
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