日前，“2024 集成电路产业链协同创新发展交流会暨中国集成电路创新联盟大会”在北京举行，会上颁发了“第七届集成电路产业技术创新奖”（简称 IC 创新奖）。经过申报、受理、评选等环节，东方晶源自主研发的关键尺寸量测设备 CD-SEM 成功斩获第七届 IC 创新奖 —— 成果产业化奖。
CD-SEM 用于集成电路硅片图形关键尺寸量测，是良率控制核心设备。该类设备被日本和美国公司垄断，国内空白，属于“卡脖子”产品。东方晶源自 2021 年先后推出 12 英寸 CD-SEM 和 6&8 英寸兼容 CD-SEM 设备，成功突破多项关键技术，如高速高精度硅片传输定位、图像像差补偿等，创新性地提出了复合高精度定位技术、电磁复合偏转器及多级视场像差校正方法，从而大幅提升了设备性能与良率优化能力。
东方晶源 CD-SEM 产品已广泛应用于多个制程领域，包括 12 英寸≥28nm 逻辑制程、3D-NAND 制程、DRAM 制程，以及 8 英寸 Si、MEMS 制程和 6 英寸第三代半导体 SiC、GaN、GaAs 等化合物制程，成功获得国内多家晶圆制造头部企业认可，具有极高的性能表现和可靠性，市场认可度高。
“IC 创新奖”重点鼓励集成电路技术创新、成果产业化、产业链上下游合作，是集成电路产业最重要的技术奖项之一。其中“成果产业化奖项”皆在表彰集成电路创新成果产业化推进和市场拓展方面取得突出业绩的单位和团队，东方晶源 CD-SEM 获此奖项实至名归。值得一提的是，东方晶源电子束缺陷检测设备 EBI 产品曾获得第五届 IC 创新奖 —— 技术创新奖。
检测、量测设备是集成电路制造过程中进行良率控制的关键设备，作为立足良率管理的企业，东方晶源自成立以来便聚焦电子束检测、量测领域，经过十年的发展，突破多项关键核心技术、产业化进程突飞猛进、积极布局电子束缺陷复检设备 DR-SEM，为我国芯片安全做出了重要的贡献。未来，东方晶源将继续在电子束检测、量测领域深耕，不断进行技术突破与产品创新。同时，将充分发挥公司在计算光刻 OPC 等软件方面的优势，将软硬件进行协同，为国内集成电路制造良率管理探索全新路径。
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