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英伟达与三星合作,计划2025年推出3纳米GAA工艺显卡

来源: 责编: 时间:2023-09-18 18:38:34 212观看
导读9月18日消息,近日,据行业消息人士透露,英伟达(NVIDIA)已经展开了与三星的合作,计划在2025年推出采用3纳米GAA工艺制程的全新显卡系列。这一消息引发了科技界的广泛关注。这一合作计划的核心是英伟达旗下的Ada Lovelace和B

9月18日消息,近日,据行业消息人士透露,英伟达(NVIDIA)已经展开了与三星的合作,计划在2025年推出采用3纳米GAA工艺制程的全新显卡系列。这一消息引发了科技界的广泛关注。6AQ28资讯网——每日最新资讯28at.com

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这一合作计划的核心是英伟达旗下的Ada Lovelace和Blackwell显卡系列。根据消息,这些新显卡将配备超过150亿个晶体管,核心时钟频率将超过3GHz,总线密度将达到512位,这预示着卓越的性能表现。RTX5090,作为其中的代表,将拥有令人瞩目的性能指标,包括144组SM单元,相比前代增加了12.5%的性能。显存方面,RTX5090将采用GDDR7显存,拥有384位宽,并支持PCIe 5.0 x16接口,为用户提供更高的数据传输速度和游戏性能。6AQ28资讯网——每日最新资讯28at.com

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除了性能的提升外,英伟达还在散热设计方面进行了创新。微星在最近的台北Computex电脑展上展示了下一代英伟达显卡的散热解决方案,其中包括动态双金属鳍片、六条贯穿式纯铜热管以及铜片嵌入的大面积铝质鳍片,这些设计将有助于有效散热,保持显卡在高负荷下的稳定性。显存区域也采用了铜片,进一步强化了散热效果。这一举措表明英伟达将着重关注显卡的散热性能,以确保用户在长时间使用中获得卓越的体验。6AQ28资讯网——每日最新资讯28at.com

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